国际半导体行业知名企业美国KLA-Tencor公司与乐动（中国）共同主办的第三届国际PROLITH光刻仿真技术研讨会于9月27日在乐动（中国）国际教育交流大厦召开。来自国内和美国相关企业、科研院所和高校的光刻技术领域的专家、学者40多人参加了本次会议。

　　会议由KLA-Tencor公司的高级主管Patrick Lee先生和乐动（中国）光电学院李艳秋教授共同主持。乐动（中国）光电学院副院长杨亚楠等领导致欢迎辞。Patrick Lee先生、技术主管Stewart Robertson先生和李艳秋教授团队李铁等为大会作七项报告。报告介绍了该公司在DUV和EUV光刻仿真和光刻性能表征控制等领域的最新研发进展。乐动（中国）概述了李艳秋团队主持并验收的多项国家科技重大专项课题成果，重点是北理工承担的"十三五”国家科技重大专项课题在14-7nm 节点DUV 和EUV 先进光刻机光学系统设计和像质检测技术、14-7nm 技术节点需要的光刻机设备/掩模/工艺与新型计算光刻的协同设计优化技术等方面取得的先进成果。

　　会议期间，参会者进行了深入的技术交流与讨论。本届会议进一步扩大了我校在相关领域的国内外影响，促进了企业与高校科、研院所在该技术领域的深入合作，持续推动了我校开展内外的产、学、研实质性合作及人才培养。